Intel setzt sich für EUV-Lithographie ein

Intel plant schon frühzeitig für die Zukunft und hat nun ein technisches Entwicklungsabkommen mit Cymer geschlossen, um gemeinsam eine Strahlungsquelle für EUV-Lithographie zu entwickeln. Zu diesem Zweck möchte Intel Unternehmen unterstützen, die sich auf die Entwicklung von UV-Lichtquellen wie Excimer-Laser spezialisiert haben.

20 Millionen US-Dollar möchte Intel in den nächsten fünf Jahren für die Unterstützung dieser Firmen bereitstellen. Einzelheiten über das Abkommen sind bisher nicht an die Öffentlichkeit gedrungen.

Durch die Chipherstellung mit Lithographie bei einer Wellenlänge von 13,5 Nanometer sollen zunächst Strukturen von 45 und 32 Nanometer realisiert werden. Um diese Strukturen lithographisch herzustellen, benötigt man Extremes Ultraviolett (EUV). Später sollen mit dieser Technologie auch Strukturen mit lediglich 22 Nanometer hergestellt werden können. Derzeit rechnet man mit einer kommerziellen Nutzung der EUV-Lithographie ab 2009.