Mikroskop erlaubt Einblick in die Nanowelt

Dem Fraunhofer Institut für Lasertechnik ist es mit Hilfe eines neuen Verfahrens gelungen, die bisherigen Grenzen der Mikroskopie zu durchbrechen und Strukturen unterhalb der Mikrometergröße abzubilden. Das neue Schlagwort heißt „Extrem Ultraviolett“.

Mittels der neu zum Einsatz kommenden extremen ultravioletten Strahlung, die mit einer Wellenlänge von 11 bis 14 Nanometern nahe an die der Röntgenstrahlung herankommt, könne man Oberflächen im Nanometerbereich vergrößern. das EUV (Extrem Ultraviolett) - Mikroskop besteht aus einer EUV-Quelle, Kollektoren sowie Schwarzschildoptiken und einer CCD-Kamera als Detektor, die letztendlich auch begrenzender Faktor ist. Die Größe der Pixel der CCD-Kamera definiert hier nämlich die Auflösung, mit der das Mikroskop arbeitet.

Der neue Vorstoß ist jedoch keineswegs nur interessant für das Betrachten von Strukturen, die Extreme Ultraviolette Strahlung gilt als Hoffnungsträger für die zukünftige Lithographie. Bisher setzt die Chipindustrie auf Ultraviolette Laser mit einer Wellenlänge zwischen 248nm und 193nm. Die neue sehr viel geringere Wellenlänge würde die Fertigung noch kleinerer Strukturen erlauben, kleiner, als sie mit der bisherigen Technik möglich wären.

Norbert Kaiser vom Fraunhofer Institut für Lasertechnik (kurz ILT) umschrieb den Vorstoß wie folgt:

„Mit verschiedenen Demonstrationen haben wir bereits die Voraussetzungen für den Vorstoß in die Nanowelt geschaffen. Mit der Verfügbarkeit von EUV-Lichtquellen und Optiken eröffnen sich eine Vielzahl von Anwendungen, die weit über den Einsatz in der Lithographie hinausgehen.“