Molecular Imprints liefert erstes 450-mm-Lithografie-System

Die Firma Molecular Imprints hat mit ihrem Imprio 450 das weltweit erste 450-mm-Lithografie-System an einen führenden Halbleiterhersteller ausgeliefert. Mit dieser Ankündigung schließt sich der Gerüchtekreis, den Intel vorgestern mit massiven Investitionen in diesem Segment eröffnet hatte.

Denn einen Tag zuvor gab sich ASML als größter Fabrikausrüster noch sehr verhalten hinsichtlich der Fertigung der neuen größeren Wafer, während Intel direkt zwei Milliarden US-Dollar an zusätzlichen Geldern bewilligte, die in den Aufbau einer Produktionsanlage fließen sollen. Damit wurden insbesondere die Investoren und Aktienanleger überrascht, die diese Flucht nach vorn mit einem Forschungsetat von mehr als 13 Milliarden US-Dollar im Jahr 2013 nicht erwartet haben. Sollte die Produktion mit diesen 450-mm-Wafern jedoch erst einmal beginnen, erhoffen sich die Nutzer große Kosteneinsparungen und deutlich höhere Output-Raten der jeweiligen Fabriken. Der Aktie hilft das derzeit nicht viel, sie fiel am Freitag bis Börsenschluss erneut um über sechs Prozent. Ein Analyst gab gegenüber Reuters dazu den Kommentar ab: „Sie müssen diese Investition tätigen, doch dies heißt nicht, dass ich während dieser Zeit auch die Aktie besitzen muss“.

Bis sich die Kosteneinsparungen erst einmal einstellen, müssen noch weitere Milliarden investiert werden. Denn die erste Maschine ist lediglich ein Testmodell, mit der die Firmen erste Schritte wagen. Dass dabei gerade Intel der Abnehmer des ersten Testgerätes ist, geht aus der Pressemitteilung von Molecular Imprints nicht einmal direkt hervor – es wird lediglich von einem „führenden Halbleiterhersteller“ als Abnehmer gesprochen. Schon im darauffolgenden Satz wird allerdings Robert E. Bruck, Corporate Vice President und General Manager of Technology Manufacturing Engineering (TME) der Intel Corporation, herangezogen, der den entsprechenden 450-mm-Wafer im Rahmen des SEMI Industry Strategy Symposiums (ISS) vorstellen durfte. Wafer dieser Art sollen in den kommenden Wochen, Monaten und Jahren allerdings noch zu tausenden folgen, um die Ausrüstung für die Seriengeräte der späteren Massenfertigung zu verfeinern.

Laut Molecular Imprints sollen die ersten 450-mm-Lithografie-Testgeräte die Umstellung auf die neue Wafergröße um bis zu zwei Jahre beschleunigen können. Einen genauen Zeitplan traut man sich jedoch auch dort nicht zu, denn die Wafergröße allein spielt in einigen Jahren nicht mehr die alleinige Rolle bei der Weiterentwicklung. Zuvor muss an der Lithografie selbst geforscht werden, um die immer kleineren Strukturen zu ermöglichen. Hier ist der Marktführer ASML derzeit am Zug, der im zweiten Quartal die erste von elf in diesem Jahr geplanten EUV-Lithografiesystemen ausliefern will.