Flash-Speicher: Toshibas Fab 2 für 3D-NAND offiziell eröffnet
Keine zwei Jahre nach dem Baubeginn wurde Toshibas NAND-Flash-Fabrik Fab 2 in Japan nun offiziell eröffnet. Die neue Anlage ist Teil der Fertigungsstätten Yokkaichi Operations in der japanischen Mie-Präfektur und soll vor allem beim Umstieg von 2D-NAND auf die Fertigung von 3D-NAND helfen.
Im September 2014 hatten die Bauarbeiten an der Fab 2 begonnen. Das Gebäude besitzt ein zweigeschossiges Stahlgerüst mit fünf Etagen und einer Fläche von rund 27.600 Quadratmetern. Bereits im Oktober 2015 waren Fertigungsanlagen für 3D-NAND installiert worden. Seit März 2016 laufe die erste Produktionsphase. Die formale Eröffnung ist jedoch erst jetzt erfolgt. Mit einem „integrierten Produktionssystem“, das große Datenmengen von täglich über 1,6 Milliarden Data Points analysiere, soll die Qualität des 3D-NAND und die Fertigungseffizienz gesteigert werden. Satoshi Tsunakawa, der Präsident und CEO der Toshiba Corporation spricht von einer „Weltklasse-Anlage“.
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Toshibas 3D-NAND-Fabrik Fab 2 (Bild: Toshiba)
Eröffnung gemeinsam mit Western Digital
Bis vor einigen Monaten hätte Toshiba die Eröffnung der Anlage noch zusammen mit Partner SanDisk angekündigt. Nach der Übernahme von SanDisk gebührte diese Aufgabe nun SanDisks Konzernmutter Western Digital. „Als bei Produkten und Lösungen mit nichtflüchtigem Speicher führendes Unternehmen sind wir gespannt darauf, in die 3D-NAND-Ära mit unserem Partner Toshiba einzutreten“, wurde Steve Milligan, der CEO von Western Digital, zitiert.
Weitere Investitionen
Bis zum Fiskaljahr 2018 sollen 860 Milliarden Yen (7,3 Mrd. Euro) in die Yokkaichi-Anlagen investiert werden. Laut Medienberichten wollen Toshiba und Western Digital in den nächsten drei Jahren sogar 1,5 Billionen Yen (rund 13 Mrd. Euro) in die 3D-NAND-Produktion stecken.