Lithografiesystem: Canon Nanoimprint erschreckt ASML-Anleger an der Börse

Für die Börsianer, vor allem einige ASML-Anleger, hat sich Canon Ende der letzten Woche überraschend medial im Lithografiegeschäft zurückgemeldet. Geforscht wird an der neuen Nanoimprint-Technik jedoch schon seit längerer Zeit, zudem kommt sie bereits seit Jahren bei einigen Herstellern zur Probe zum Einsatz.

Ziemlich genau vor einem Jahr berichtete ComputerBase über die Investitionen von Canon in dem Bereich, so viel Geld wurde hier seit 20 Jahren nicht mehr in die Hand genommen. Die Hoffnung lag seinerzeit auf der neuen Nanoimprint Lithography. Geforscht wird daran schon seit dem Jahr 1995, so richtig aber seit dem Jahr 2003 und vor allem seit 2009 durch das Unternehmen Molecular Imprints (MII).

Damit hatte man hochtrabende Ziele für die Einführung in der Logic-Produktion bei 32 nm. Dieses Ziel wurde aber nie erreicht, viel zu hohe Fehlerraten, aber auch Geldsorgen und keine ausreichende Produktionskapazität verhinderten das Vorankommen. 2014 wurde das Unternehmen von Canon aufgekauft. Canon hatte die eigene Forschung in dem Bereich bereits seit 2004 am Laufen, nach dem Kauf wurden die Bemühungen forciert, was aber viel Zeit in Anspruch nahm.

Nanoimprint vs. DUV und EUV

Nanoimprint Lithografie (NIL) verspricht nämlich nicht nur bis zu 40 Prozent geringere Kosten als ein EUV-System, sondern parallel einen bis 90 Prozent geringeren Energiebedarf. War bisher von rund 10 nm als kleinste mögliche Struktur bei NIL die Rede, gibt sich Canon nun jedoch optimistischer: 5 nm bis hinab zu 2 nm könnten es werden – das ließ Anleger aufhorchen und schickte die ASML-Aktie kurzfristig, wenn auch nur leicht ins Minus. Der Markt beruhigte sich aber schnell wieder, denn eine echte Ablösung wird NIL nicht, vielmehr handelt es sich um eine Ergänzung im Markt.

Die Unterschiede im Verfahren liegen im Detail: Anstelle eines Belichtungsverfahrens werden bei NIL Muster im Nanometerbereich hergestellt, indem die Mustermaske auf das Harz gepresst wird. Das System ist relativ einfach aufgebaut und daher sehr kompakt, was so zu den versprochenen Einsparungen führen soll. Kioxia hat diese „FPA-1200NZ2C“-Systeme bereits seit einigen Jahren für die NAND-Herstellung im Versuchsbetrieb. Hier wären geringere Kosten durchaus ein Wettbewerbsvorteil.

Primär warb Canon bisher mit einer Alternative für die NAND-Herstellung, die ersten Kunden dürften demnach aus diesem Bereich stammen. Später soll DRAM folgen, perspektivisch auch Logic. Ein 2-nm-Chip mit Canon-Tools ist noch lange nicht in Sicht, das legte auch ein Fahrplan von Canon aus dem letzten Jahr nahe. Canons Forscher bezeichneten erst dieses Jahr die Umsetzung für DRAM weiterhin als Herausforderung.

Die Chance auf ein paar Marktanteile von ASML

Wie gut diese Systeme, die Canon nun als FPA-1200NZ2C unter gleichem Namen in den Markt schickt, letztlich wirklich sind, ist aktuell noch ein ziemlich großes Geheimnis. Es gibt einige Folien, die Potenzial vor allem hinsichtlich der Kostenersparnis zeigen, aber dabei bleibt es aktuell noch. Für EUV und das in Kürze startende High-NA-EUV ist die Technik kein Herausforderer, könnte aber einige Marktanteile im DUV-Markt von ASML abgreifen. Im Lithografiegeschäft ist Canon ein kleines Licht, der Umsatz dieser Sparte liegt bei ungefähr 10 Prozent von dem, was ASML erwirtschaftet.

Helfen könnte nach aktuellem Stand aber, dass die neuen Canon-Systeme noch nicht unter das US-Embargo für Hochtechnologie nach China fallen. Betroffen sind davon nicht nur alle EUV-, sondern in Kürze auch ASMLs modernste DUV-Systeme. Sollte Canons Technik aber so gut sein, wie es der Hersteller behauptet, dürften hier entsprechend schnell die Daumenschrauben auch in diese Richtung angezogen werden.