TSMC bekommt EUV-Lithografie-System

ASML, der weltweit größte Hersteller von Lithografiesystemen für die Halbleiterbranche, hat die Lieferung eines EUV-Lithografie-Systems vom Typ Twinscan NXE:3100 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC), den weltweit größten unabhängigen Auftragsfertiger für Chips (Foundry), bekannt gegeben.

Das System wird in TSMCs Fab 12 GigaFab installiert und soll zur Forschung und – neben anderen Technologien – der Entwicklung künftiger Prozessgenerationen mit noch feineren Strukturen dienen, wenn die aktuell eingesetzte Immersionslithografie mit einer Wellenlänge von 193 Nanometer an ihre Grenzen stößt. Wann genau dies der Fall sein wird, ist noch nicht sicher. Vermutlich wird es jedoch spätestens dann der Fall sein, wenn es an die 11 nm geht.