Einfach mal googlen, was man ueber EUV findet. Die Prognosen um 2005 herum waren, dass man in 2010 in die Serienfertigung (HVM) geht. 2011 stellte Xtreme technologies eine Roadmap fuer die EUV Lichtquelle vor, die schon in wenigen Jahren 250 Watt @ IF Leistung bringen sollte. Cymer, einer der anderen EUV-Quellen Hersteller, lief parallel mit den Prognosen. Alles das war jedoch Marketing. Die Probleme mit EUV sind jedoch nach wie vor gross. Die EUV Lichtquelle ist eine Maschine, eine Lampe die offen ist (die Oeffnung zum Scanner). Welche Lampe wurde je hergestellt, die offen ist? Ja Feuer
Ein paar cm Luft und schwupps ist EUV weg. Also Lampe, sorry Quelle und Scanner muessen unter Hochvakuum arbeiten. Linsen? wuerden sich trueben und EUV absorbieren. Also teure Spiegel, besser als in der Raumfahrt. Reticle als negativ, quatsch, wuerde EUV absorbieren, ist ebenfalls ein teurer Spiegel. Leistungssteigerung, debris mitigation, es gibt noch so viel zu tun. Fuer alle die, die nicht wissen wie das EUV bei dem von ASML verwendeten System hergestellt wird: Man laesst ein Zzinntroepfchen fallen, feuert mit einem extreme starken Laser drauf, wenn es ins schussfeld kommt, das zinn verdampft teilweise, es spritzt durch die gegend teilweise, es wird plasma, das plasma strahlt EUV aus. Das ganze passiert dann ganz schnell hintereinader, damit man Lichtpulse zur Waferbelichtung hat. Na kommt langsam ein Gefuehl dafuer auf, was das bedeutet?
Entschuldigt die komischen Umlaute, ich hab ne englische Tastatur, ich schreibe naemlich aus Veldhofen NL