Vollkommen richtig und wie bei Wikichip bereits genannt, werden so mit etwa 10 EUV Layern die sonst notwendigen 30 DUV Layer ersetzt. Im Umkehrschluss bedeutet es jedoch auch eines, ohne EUV wäre der 5nm Prozess bei TSMC auch noch möglich gewesen. Es ist nur schlichtweg mittlerweile kostengünstiger und auch "einfacher" dies mit EUV zu machen.Matthias B. V. schrieb:entstehen mit einer steigenden Anzahl an Layern in EUV.
Welcher Aufwand dabei betrieben wird, zeigt das Video was ich jedem nur empfehlen kann und einen tiefen Einblick in die EUV F&E bei Intel liefert.
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