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NewsNvidia cuLitho: GPU-beschleunigte Lithografie geht in die Serienproduktion
Es ist zumindest nicht trivial, da sehr verschiedene Elemente nebeneinander positioniert sind, die sich dann gegenseitig beeinflussen. Die "Grundbausteine", wenn es sie denn gäbe, müssten sich also überlappen und genau deshalb existieren sie nicht so wirklich. Gewisse Zusammenhänge und Muster gibt es da zwar schon, aber genau deshalb reicht keine "Musterbibliothek" als Ausgangspunkt, sondern wird ein KI-Algorithmus verwendet.
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Vielleicht werden derartige Techniken dafür sorgen, dass neue Nodes wieder häufiger auch für bloße Shrinks genutzt werden. Früher war das ja sogar manchmal so, dass ein Design ansonsten unverändert geshrinked wurde. Heute dauert hingegen alles so lange, dass die Architektur bis dahin definitiv schon wieder aufpoliert worden ist. (es sei denn, es wird ein bloßer Refinement-Node gewählt, bei dem die gleichen Masken weiterverwendet werden können)