News ASML kauft Cymer für schnellere Entwicklung der EUV-Lithografie

[Volker]

ASML hat als weltweit größten Fertiger von Lithografiesystemen in diesem Jahr schon mehrmals auf sich aufmerksam gemacht, haben doch Intel (15 Prozent), TSMC (5 Prozent) und Samsung (3 Prozent) Anteile am niederländischen Konzern erworben. Jetzt kauft dieser mit Cymer einen weiteren Spezialisten ein.

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[Krautmaster]

Diese EUV Belichtung dürfte technisch an Komplexität wohl kaum zu überbieten sein. Okay, eventuell von CERN's LHC ...

Mich würden mach detaillierte technische Details zu diesen Geräten interessieren, auch von physikalischer Seite... Top Secret würde ich mal behaupten.

 

[Smartbomb]

@Krautmaster: This!
Und: da sind wir schon 2!

 

[pipip]

CERN's LHC ...

Na hoffentlich zerstören sie damit nicht die Welt !
http://www.n24.de/news/newsitem_8298160.html

Sonst, bin ich schon gespannt, was man die nächsten Jahre von ASML noch hört.

 

[Kallisto]

Um Missverständnisse zu vermeiden möchte ich erwähnen, dass der Laser lediglich dazu genutzt wird das EUV zu erzeugen welches dann im eigentlichen Lithografieprozess angewandt wird.

Bei dem Laser handelt es sich um einen CO_2 Laser welcher Licht im tiefen infraroten Wellenlängenbereich (10500nm) emittiert (also weit "oberhalb" dessen was wir sehen können). Die Pulse dieses Lasers werden innerhalb einer Vakuumkammer auf einen Flüssigkeitstropfen fokussiert wodurch ein Plasma erzeugt wird. Dieses Plasma emittiert nun unter anderem Licht der Wellenlängen 13.5nm (weit "unterhalb" dessen was wir wahrnehmen können). Anschließnd wird das EUV mittels spezieller Fokussierspiegel eingesammelt und auf den wafer gelengt.

Nicht ganz einfach aber bei weitem nicht so komplex wie das LHC.

 

[lolololol]

@Kallisto: Danke für die Aufklärung, hoch interessant das Ganze.

 

[noay11]

Um Missverständnisse zu vermeiden möchte ich erwähnen, dass der Laser lediglich dazu genutzt wird das EUV zu erzeugen welches dann im eigentlichen Lithografieprozess angewandt wird.

Bei dem Laser handelt es sich um einen CO_2 Laser welcher Licht im tiefen infraroten Wellenlängenbereich (10500nm) emittiert (also weit "oberhalb" dessen was wir sehen können). Die Pulse dieses Lasers werden innerhalb einer Vakuumkammer auf einen Flüssigkeitstropfen fokussiert wodurch ein Plasma erzeugt wird. Dieses Plasma emittiert nun unter anderem Licht der Wellenlängen 13.5nm (weit "unterhalb" dessen was wir wahrnehmen können). Anschließnd wird das EUV mittels spezieller Fokussierspiegel eingesammelt und auf den wafer gelengt.

Nicht ganz einfach aber bei weitem nicht so komplex wie das LHC.

ein hoch auf die wissenschaft

 

[Crabjaw8910]

ich habe schon mal eine führung durch das werk von carl zeiss smt bekommen. dort werden ausschließlich die objektive für die asml scanner hergestellt. ist wirklich unglaublich und absolut das was ich mir unter high-tech vorstelle