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@Beitrag hier mal ein paar Kennzahlen aus meiner Branche, Sensorik und Optoelektronik Industrie. Die Daten basieren auf 6", 8" und Oled Erfahrungen:
Wafer testen und frühzeitige Defekterkennung ist vielschichtig. Es gibt die elektronischen Vollautomaten wie du sie ansprichst. Aber die meisten Test finden nicht am direkten Chip statt. Auf den Wafern sind meistens Teststrukturen aller Art, für Schichtdicken, Schichtwiderstand, Ätzraten, Justage, Durchbruchfeldstärke etc. die stichprobenartig kontrolliert werden.
Weiterhin wird in den Fabs in aller Regel eine Anlagenkontrollstrategie gefahren, sprich regelmäßig werden an den Anlagen Dummywafer prozessiert und extrem genau charakterisiert. Z.B. Verspannung, Pinholes, Dicke, optische und elektrische Materialparameter etc.
Und dann gibt es noch eine dritte Säule der Kontrollstrategien, Selbstüberwachung der Anlagen durch interne Sensorik, beliebte Beispiele sind Schwingquarze bei Metallisieren, Restgasüberwachung im Vakuum, Endpunkterkennung in Plasmaanlagen, ...
- Si Wafer Rohmaterial ab ca. 10 - 15 Eur pro Stück
- GaN Wafer (GaN epitaxiert auf Saphir) ab 100 Eur pro Wafer
- ALD Oxide ab 1 Eur pro 10nm, Prozesszeit ca. 1 Stunde pro 10nm
- Metallstapel stark Rohmaterialabhängig. Billige Metalle im einstelligen Euro Bereich pro Wafer. Goldhaltige Stapel ab ca. 15 Eur pro Wafer. Prozesszeit bei Sputtern wenige Minuten pro Wafer. Bedampfen dauert einige Stunden aber dafür werden große Batches von ca. 30 Wafern parallel beschichtet.
- CVD Prozesse ab ca. 1 Eur pro 100nm, Prozesszeit ca. 1 Minute pro 100nm
- Einfache Messungen wie Justage, Schichtdicke, Schichtspannung, Schichtwiderstand, Durchbruchfeldstärke, Defektdiche ab ca. 0,5 Eur pro Wafer
- Komplexe Messungen wie z.B. 100% elektrische Messung eines Wafers ab 10 Eur pro Wafer. Messdauer im Stundenbereich möglich.
Wafer testen und frühzeitige Defekterkennung ist vielschichtig. Es gibt die elektronischen Vollautomaten wie du sie ansprichst. Aber die meisten Test finden nicht am direkten Chip statt. Auf den Wafern sind meistens Teststrukturen aller Art, für Schichtdicken, Schichtwiderstand, Ätzraten, Justage, Durchbruchfeldstärke etc. die stichprobenartig kontrolliert werden.
Weiterhin wird in den Fabs in aller Regel eine Anlagenkontrollstrategie gefahren, sprich regelmäßig werden an den Anlagen Dummywafer prozessiert und extrem genau charakterisiert. Z.B. Verspannung, Pinholes, Dicke, optische und elektrische Materialparameter etc.
Und dann gibt es noch eine dritte Säule der Kontrollstrategien, Selbstüberwachung der Anlagen durch interne Sensorik, beliebte Beispiele sind Schwingquarze bei Metallisieren, Restgasüberwachung im Vakuum, Endpunkterkennung in Plasmaanlagen, ...
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