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Bundespräsident Frank-Walter Steinmeier hat ein Forscherteam von Zeiss, Trumpf und dem Fraunhofer Institut mit dem Zukunftspreis für ihre Entwicklung der EUV-Lithografie ausgezeichnet. Ohne die Technik der deutschen Entwickler könnte ASML, der einzige EUV-Ausstatter, die Belichtungssysteme für Halbleiterfabriken nicht bauen.
Zur News: Deutscher Zukunftspreis: Forscher-Team um Zeiss gewinnt für EUV-Lithografie
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