Bl4cke4gle
Rear Admiral
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So oder so hätte man es aber eigentlich bei den Strukturbreiten lassen können Marketing in so einem spezialisierten Bereich macht doch mal so gar keinen Sinn.
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Bl4cke4gle schrieb:EDIT: Also kleinste Gatelänge liegt aktuell bei 28nm?
Bl4cke4gle schrieb:So oder so hätte man es aber eigentlich bei den Strukturbreiten lassen können Marketing in so einem spezialisierten Bereich macht doch mal so gar keinen Sinn.
MK one schrieb:The 5nm node is predicted to offer a 15 percent performance improvement or a 20 percent power reduction (but not both) with an overall 45 percent in area
Retro-3dfx-User schrieb:sind diverse Zwischenlagen und Verbindungen,
blub1991 schrieb:Allerdings nicht, weil das nicht funktioniert hätte, sondern weil die Hersteller Tricks gefunden haben um mit den alten Lichtquellen noch länger arbeiten zu können.
Piak schrieb:Sicherlich wichtig zu erwähnen ist, dass die Technik, nicht etwa von ASML aus Niederlanden, sondern aus Deutschland kommt.
estros schrieb:Bitte genau lesen. Zwischen den Massenproduktionen liegen nach wie vor viele Jahre.
Genau das. "Aber ich war 2014 Weltmeister!"foofoobar schrieb:Kasperkram, in den Dingern wird wahrscheinlich Technik aus der ganzen Welt stecken. Hast du keine eigenen Federn mit denen du dich schmücken kannst?
Gemeint ist vermutlich, dass solchen Techniken und Geräten jahrelange Grundlagenforschung voraus gehen und diese sind heutzutage auf viele Institute verteilt, die sicherlich über die ganze Welt verstreut sein dürften. Das Know-how ballt sich für sowas ja nicht in einem Land. Da fließen Erkenntnisse von weltweiter Forschung aus unterschiedlichsten Fachgebieten ein.Piak schrieb:versteh nicht.
Samsung Foundry on Wednesday said that it had started production of chips using its 7LPP manufacturing technology that uses extreme ultraviolet lithography (EUVL) for select layers.
[...]
The maker of semiconductors says that 7LPP fabrication technology enables a 40% area reduction (at the same complexity) along with a 50% lower power consumption (at the same frequency and complexity) or a 20% higher performance (at the same power and complexity) when compared to 10LPE. As it appears, usage of extreme ultraviolet lithography for select layers enables Samsung Foundry to place 40% more transistors inside its next-gen SoCs and reduce their power consumption, a very compelling proposition for mobile SoCs that will be used inside future flagship smartphones.
AshS schrieb:Die höchsten Synergieeffekte hätte man wenn ASML in die Prozessorfertigung einsteigt, wer den Stempel zum Gelddrucken hat, sollte ihn auch selber benutzen.
Cool Master schrieb:Wenn es nur so einfach wäre... Erstens hat ASML nicht die nötigen Rechte und müsste diese erst mal lizenzieren und zweites haben die nicht das Know-How. Die Maschinen selber sind nur ein Teil des Know-Hows.
AshS schrieb:Die Maschinen sind das wichtigste, genau wie der Backofen zum Kuchenrezept.
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