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Auf dem OIP Ecosystem Forum hat TSMC das erste tape-out eines Testchips in 7 nm unter Nutzung von EUV-Lithografie (N7+) vermeldet. Im Frühjahr 2019 soll bereits mit 5 nm (N5) die sogenannte risk production beginnen, um rund ein Jahr später die Serienfertigung aufnehmen zu können. Es ist ein Meilenstein, vor allem für EUV.
Zur News: Halbleiterfertigung: TSMC feiert tape-out des ersten EUV-Chips
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