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Im Rahmen der SPIE Advanced Technology Conference rund um das Thema Lithografie für die Zukunft standen die Schwerpunkte EUV und 450-mm-Wafer im Mittelpunkt. Beide Technologien haben bereits mehrfach Verschiebungen des Zeitplans zur Einführung hinter sich – und es werden nicht die letzten sein.
Zur News: 450-mm-Wafer erst 2023, EUV ebenfalls verspätet
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