Notiz EUV-Lithografie: ASML liefert 100. EUV-Belichtungssystem aus

peter.hahn schrieb:
Es gibt Gründe warum man für NAND aktuell kein EUV nutzt.. da wird mehr Richtung mehr Layer gegangen.. und 3D und 4D, da werden noch länger keine 3-5nm Strukturen gebraucht..

Das Problem bei NAND ist wohl , das man eine minimale Zellengröße für die Speicherkondensatoren hat um genügend Elektronen für die Ladung darin unterzubringen. Und diese Zellengröße kann man auch ohne EUV erreichen.
 
mkossmann schrieb:
Das Problem bei NAND ist wohl , das man eine minimale Zellengröße für die Speicherkondensatoren hat um genügend Elektronen für die Ladung darin unterzubringen. Und diese Zellengröße kann man auch ohne EUV erreichen.
jup, irgend sowas, wusste nur nicht genau wie wo was.. dachte erst evtl. sowas wie schreibzyklen..
hoffe er hat nun kapiert warum die keine EUV gekauft oder aktuell am kaufen sind.
 
makus schrieb:
was kostet bitte an der maschine 150 mio euro, [....] ?
Nun, die Präzision bzw. Feinheit der elementaren Baugruppen, für welche es momentan auch nur jeweils einen Hersteller gibt, sowie die Entwicklung des "großen Ganzen" in den letzten 20 Jahren. Diese Gelder müssen ja auch mal wieder rein kommen.

Hier hat mal jmd, der es wissen können sollte, einen Größenvergleich gepostet.
Wenn man die für die Umlenkung des Lichts nötigen Spiegel ungefähr auf die Fläche von Deutschland aufziehen würde, wäre der Höhenunterschied (Ebenheit) maximal 0,5mm.
Allein diese Größenordnung flößt Unheimlichen Respekt ein.
Dagegen ist Raketenbau bis auf weiteres (solange es keine völlig neuartige Art von Antrieb gibt) eher Kindergarten.
 
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Ja, manche Bauteile sind extrem teuer.
Der genannte Spiegel wird über Monate geschliffen, muss aus verschiedensten Materialien bestehen, dass möglichst viel reflektiert wird, des Weiteren muss es der Strahlung widerstehen können.

Oder mit was misst man die Geometrie von so nem Spiegel überhaupt 😅
https://www.iof.fraunhofer.de/de/ge...ptiken/kollektorspiegel-euv-lithographie.html

Oder alleine die Technik um das EUV Licht zu erzeugen, das kann nicht günstig sein 😅
In aktuellen Vorrichtungen werden zunächst 50.000 Zinntropfen pro Sekunde erzeugt. Diese Tropfen mit einem Durchmesser von 25 Mikrometern fallen in eine Vakuumkammer, in der ihre Position mittels einer Hochgeschwindigkeitskamera gemessen wird. Jeder Tropfen wird dann zuerst von einem Laser-Vorpuls getroffen, der ihn in eine pfannkuchenartige Form bringt, um dann im folgenden Schritt mit dem Hauptpuls-Laser in Plasma umgewandelt zu werden, das EUV-Licht mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern emittiert.

so eine Maschine besteht aus 100.000 Einzelteilen und wiegt 180t.
 
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